圖源：圖蟲
3月27日，光刻機板塊表現活躍，新萊應材（300260.SZ）午后開盤快速“20cm”漲停，國風新材（000859.SZ）、凱美特氣（002549.SZ）、西隴科學（002584.SZ）、海立股份（600619.SH）、冠石科技（605588.SH）、興業股份（603928.SH）、江化微（603078.SH）、常青科技（603125.SH）等“10cm”漲停，佳先股份（430489.BJ）、芯碁微裝（688630.SH）等公司漲幅居前。
圖源：東方財富網
消息面上，3月26日，SEMICON China 2025在上海開幕。深圳新凱來工業機器有限公司（下稱“新凱來”）首次公開亮相，并發布多款產品，覆蓋半導體制造全流程，包括EPI“峨眉山”產品、ETCH“武夷山”產品、CVD“長白山”產品、PVD“普陀山”產品、ALD“阿里山”產品等。
天眼查顯示，新凱來成立于2022年6月7日，其背后股東分別為新凱來技術有限公司和深圳市均隆高新產業創業投資中心（有限合伙）。
圖源：天眼查
就新凱來的產品及發展情況，時代財經3月27日向新凱來方面發去了采訪提綱,但截至發稿未獲有效回復。
據半導體產業縱橫報道，新凱來自成立之初就瞄準國內半導體制造企業的高端裝備需求。其從2022年開始快速構建研發團隊、組織行業資源，從客戶需求到系統設計，從零部件開發到整機集成，3年潛心研發。3月26日，新凱來發布的13類產品涵蓋了光學檢測、光學量測、PX 量測、功率檢測等領域。
新凱來量檢測裝備產品線總裁酈舟劍在接受媒體采訪時提到，“當前首要解決先進制程問題，國外工藝節點已經走的更領先，我們也會朝這個方向持續地努力，這需要時間，但我們有信心。”
國泰君安分析稱，美系廠商主導的刻蝕、沉積、量檢測、離子注入等主要半導體設備進口或進一步受阻，倒逼國產設備加速發展。
國信證券研究顯示，光刻機作為所有半導體制造設備中難度最高、最難突破的一環，占晶圓生產設備總市場的24%。從UV到EUV，光刻機經歷了五代發展和進化，每次光源的改進都顯著提升了光刻機所能實現的最小工藝節點。根據前瞻研究院數據，光刻機由光源、曝光和雙工作臺三大核心系統組成，一臺EUV光刻機內含有超10萬個精密零部件，全球供應商超過5000家。其中光學系統是最重要的子系統之一，約占整體光刻機成本的30%。
從3月27日光刻機板塊漲停個股來看，據Wind數據，新萊應材是超高潔凈設備關鍵部件的專業供應商，產品廣泛應用于食品飲料、生物醫藥及泛半導體行業；國風新材深度聚焦高分子功能膜材料、光電新材料、聚酰亞胺材料、綠色環保木塑新材料、新能源汽車輕量化材料五大產業；冠石科技主營業務為半導體顯示器件及特種膠粘材料的研發、生產和銷售；江化微主營超凈高純濕電子化學品及光刻膠配套濕電子化學品。
這其中，開源證券研報指出，新萊應材產品滿足7nm先進制程需求，批量交付AMAT、LAM、北方華創、長江存儲等全球半導體龍頭。公司產品成熟可批量出貨，國內進展順利，后續訂單有望持續落地。
國風新材在2024年年報中透露，公司聚酰亞胺薄膜材料可廣泛應用于柔性顯示、集成電路、芯片柔性封裝、5G通信、新能源汽車、電氣電子、航空航天等領域，目前已批量生產的聚酰亞胺薄膜主要產品為FCCL用聚酰亞胺黃色基膜、遮蔽用聚酰亞胺黑膜、聚酰亞胺碳基膜和芯片封裝用聚酰亞胺薄膜。
冠石科技則在2024年半年報中表示，報告期內完成了光掩膜版項目，預計建成投產后，公司將成為國內技術能力先進的獨立光掩膜版生產企業，提高我國半導體光掩膜產業的安全和可控性。
對于江化微，華鑫證券研報表示，公司在濕電子化學品領域具有較強的市場競爭力，尤其是在高端半導體和光刻膠配套試劑業務方面表現突出，并已實現G5等級產品的量產，在華虹集團、長鑫存儲等高端半導體客戶中形成銷售，進一步鞏固了在行業中的領先地位。
對于國內光刻機產業的發展，光大證券研報表示，目前國內的IC前道光刻機市場主要被ASML、Nikon和Canon瓜分。ASML為國內光刻機最大的進口來源。上海微電子是國內光刻機頭部廠商，其自主研發的600系列光刻機可批量生產90nm工藝的芯片。但是在技術層面，上海微電子的IC前道光刻機與國際先進水平差距仍較大，國產光刻機仍任重道遠。
截至3月27日收盤，萬得光刻機概念指數上漲4.99%至3362.53點。
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